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특징


- 분광 엘립소미터는 박막 분석 및 측정에 널리 사용된다.

- 박막 샘플의 특성을 분석하기 위해 회전 분석기와 타원계측법 기술을 통합하고 있다.

- 고속 CCD 배열 탐지를 사용하여 전체 스펙트럼을 수집한다.

- 단일 및 다중 레이어 샘플 분석

- 비파괴 및 비접촉 기법 활용

- 나노미터 두께에서 수십 미크론까지의 필름 광학적 특성 측정

- 투명한 물질 및 흡수물의 광학적 특성 측정

- 굴절률, 필름 두께, 소멸 계수 등의 광학 상수를 정밀하게 측정

- 다층 박막과 복잡한 박막 구조를 측정 및 분석

- (Ψ, Δ) 측정 감도 균일

- IR 범위를 통해 볼 수 있는 석영 할로겐 램프 제공

- 표본 정렬을 위한 오토콜리메이터, Z축 및 기울기 플랫폼 제공

- 박막 균일성을 매핑하기 위한 옵션 기능으로 XY 모터 구동식 스테이지 및 모터 구동식 회전 스테이지 제공





사양



-Spectral Range: 450 - 800nm


-Detector: Line CCD Camera


-Resolution: 2nm


-Light Source: Halogen Lamp


-Incident Angle: 50 - 75 degree (Resolution: 0.1 degree, Automated operation)


-Thickness Measurement Range: 0.1nm - 10micron


-Resolution of film thickness: 0.01nm


-Resolution of measured R.I: 0.001


-Sample alignment: Semi-automated (optical detection) with manual 10mm height adjustment and tilt


-Sample stage features: X - Y translation over 150 x 150mm (optional)


-Measurable film parameters: Refractive index, extinction coefficient, absorption coefficient and film thickness





실험이론



물체의 표면에서 빛이 반사되는 동안 빛의 편광 상태 변화를 통해 박막을 분석하기 때문에 매우 민감한 기술이다. 전자파의 전기장 방향에 해당하는 편광 상태를 특성화하기 위해 p-방향(병렬)과 s-방향(수직)의 두 방향을 기준으로 측정한다. 반사된 빛은 p-방향과 s-방향에 대해 다른 위상 변화를 발생하게 된다.







장치 구조